推荐纪念性一刻!ASML最新High-NA EUV,成功印首条10纳米密集线

ASML宣布首款采用0.55数值孔径(High-NA)EUV曝光设备已打印出第一个图案。根据最新贴文,ASML的High-NAEUV系统已成功打印出第一条10纳米密集线(dense [更多]
新闻
十轮网
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

更多相关

自由,刻线改造

新闻
高达
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

跃动学堂:手办模具刻线技巧

新闻
跃动学堂教育
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

开心一刻:这线连得没毛病!

新闻
建水在线
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

“疫”刻微纪录身边的“一线”

新闻
政经云南新闻
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

前一刻统一战线,下一刻背叛。

新闻
老李哥搞笑配音
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

【美时美刻】方免衰乱线画开班

新闻
艺术名家资讯
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

那一刻,时间线开始改变

新闻
心上人电影
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

技艺精湛的汉玉“阴刻线”与“游丝工”

新闻
大江大河遇见收藏
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

斑马线礼让惊魂一刻

新闻
青云观史
0 跟贴 0

用微信扫码二维码

分享至好友和朋友圈

没有更多内容了
热点新闻
无障碍浏览 进入关怀版