推荐替代EUV光刻机光源,日本方案详解

如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~1引言众所周知,根据摩尔定律,每块芯片的晶体管数量几乎每两年翻一番。光刻分辨率R取决于光源波长λ、数值孔径NA和工艺参数k1,如下所示、为了 [更多]
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