推荐传芯半导体公开用于EUV光刻的曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机专利

集微网消息,国家知识产权局网站日前公开了上海传芯半导体有限公司“曝光成像结构、反射式光掩模版组及投影式光刻机”发明专利申请。根据专利说明书,该发明提供一种用于EUV光刻的曝光成像结 [更多]
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